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大阪大学 大学院 工学研究科 精密科学・応用物理学専攻

有馬 健太 准教授

還元グラフェンを用いた選択的エッチング機能と応用

ナノテクノロジー
小間 N-26

Osaka University Associate Professor Kenta Arima

Enhanced etching function using Reduced Graphene Oxide Sheets and its applications

小間:小間番号   プレ:プレゼンテーション番号

7 エネルギーをみんなに そしてクリーンに
出展ゾーン
大学等シーズ展示ゾーン
出展分野
ナノテクノロジー
小間番号
N-26

展示概要

技術概要
酸化グラフェンを化学的に還元し酸素官能基を除去した還元グラフェン溶液を準備しGe基板表面にスピンコート作製した。溶存酸素水中に浸漬した還元グラフェン/Ge基板を観察したところ、グラフェンフレーク直下の基板表面が選択的にエッチングされており、エッチング性能は還元グラフェン構造等に依存することが確認された。フレーク直下の選択的且つ均一な基板エッチング性能は、半導体向けに新規なエッチングプロセスの提案に繋がるだけでなく、グラフェン系燃料電池正極材料開発における触媒活性能評価への展開も期待されます。

想定される活用例
・燃料電池の次世代正極材料として期待されているグラフェン触媒の性能評価法
・従来のフォト/電子線リソグラフィーとは異なる、半導体表面上への塗布型の新しい加工法

 

展示のみどころ
半導体表面上にグラフェンシートを単一レベルで散布・形成し、溶液中でシート直下の半導体を選択的にエッチングした試料を展示いたします。エッチング痕の深さは、グラフェンシートが酸素分子を還元する触媒性能を表すため、燃料電池用正極材料の性能が目視で確認できます。
また、溶液中で分散性が高いグラフェン触媒の性質を利用して基板上に塗布し、形成したパターン直下の領域を選択的に加工した試料も展示いたします。

 

還元グラフェンシートの触媒的な作用による半導体表面の選択エッチング

単層の還元グラフェンシートによる半導体表面の選択エッチング例 / Example of selective etching of semiconductor surface assisted by single sheets of reduced graphene oxide in solution

お問い合わせ先

大阪大学共創機構 産学共創本部 イノベーション戦略部門 産学官連携支援室

メールアドレス:contact@uic.osaka-u.ac.jp

電話:06-6879-4875  

URL:https://www.uic.osaka-u.ac.jp/

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